PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）
原子层沉积系统（ ALD P-200）


名称：原子层沉积系统  产地：芬兰

Picosun简介
Picosun是一家**公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括zui  大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及**ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有*特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了较大的产出效率，并且具有*的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有较严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有较好的性能，完全满足您的需求。

技术指标

衬底尺寸和类型	50 – 200 mm /单片
	156 mm x 156 mm 太阳能硅片
	150 mm x 150 mm 显示面板
工艺温度	50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件	气动升降（手动装载）
	半自动装载，用PICO**TFORM™200集群系统实现
	25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICO**TFORM™200集群系统实现
标准	SEMI S2 认证（认证中）
前驱体	液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（较多4路气体）：
	前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
	6根独立源管线，较多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）
重量	790 kg
尺寸 (W x H x D)	160 cm x 80 cm x 240 cm
可选件	集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与 工厂软件连接服务。
验收标准	标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
	其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
	--不均匀性
	--颗粒物含量
	--重金属污染
	--电学性能


应用领域
PICOSUN™ 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICO**TFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和较短的停机时间。PICOSUN™ P系列Pro工具保证了较大产能以及较节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。